[发明专利]无掩膜光子电子点格栅阵列光刻机无效
| 申请号： | 02824637.3 | 申请日： | 2002-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN1602451A | 公开（公告）日： | 2005-03-30 |
| 发明（设计）人： | 吉拉德·艾茂基 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01J37/317 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 朱海波 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高分辨率、高数据速率点格栅阵列光刻机系统，其中通过利用电子束扫描衬底形成表示待记录到初缩掩膜版或半导体晶片层上的图形的图像。实施例包括光刻机，该光刻机包括利用基本平行的光束照射光子电子变换器的光辐射源，单独调制该光束以对应于要记录到衬底上的图像。光子电子变换器产生由对应于调制光束的电子束阵列构成的中间图像。缩微器插在光子电子变换器与衬底之间，用于减小中间图像的大小。可运动工作台在衬底与光子电子变换器之间实现相对运动，以致利用电子束扫描衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩膜 光子 电子 格栅 阵列 光刻 | ||
【主权项】：
1、一种利用电子束阵列形成的图像使衬底曝光的无掩膜光刻设备，该系统包括：可编程光辐射源，用于提供响应输入数据信号调制的光束阵列并形成一系列光学图形；光子电子变换器，用于将光束变换为电子束，并形成一系列电子束图形；电子光学器件，用于使电子束聚焦到衬底上；以及移位器，用于在衬底与电子束之间实现相对运动，以致利用形成图像的一系列电子束图形使该衬底曝光。
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