[发明专利]等离子体处理装置无效

专利信息
申请号: 02824694.2 申请日: 2002-11-25
公开(公告)号: CN1602543A 公开(公告)日: 2005-03-30
发明(设计)人: 河西繁;山本伸彦;足立光;长田勇辉 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/31 分类号: H01L21/31;H01L21/302;H05H1/46;H01P5/00;H01J27/16;H01J37/08;C23C16/511;C23F4/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种等离子体处理装置,可通过使匹配电路小型化而在密封盖部上一体化装载微波发生源等。等离子体处理装置,其特征在于,包括:可抽为真空的处理容器(42);载放台(44),设置在上述处理容器内,载放被处理体;微波透过板(70),设置在上述处理容器的顶部的开口部;平面天线部件(74),用于经上述微波透过板将微波供给上述处理容器内;密封盖体(78),接地,使其覆盖上述平面天线部件的上方;波导管(82),将来自微波发生源的微波导入到上述平面天线部件;部件升降机构(85),相对改变上述天线部件和上述密封盖体间的上下方向上的距离;调谐棒(104),设置成可插入到上述波导管内;调谐棒驱动机构(102),移动上述调谐棒能够调整其插入量;匹配控制部(114),通过控制上述平面天线部件的升降量和上述调谐棒的插入量来进行匹配调整。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置
【主权项】:
1.一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:可抽为真空的处理容器;载放台,设置在所述处理容器内,载放被处理体;微波透过板,设置在所述处理容器的顶部的开口部;平面天线部件,用于经所述微波透过板将微波供给所述处理容器内;密封盖体,接地,使其覆盖所述平面天线部件的上方;波导管,将来自微波发生源的微波导入到所述平面天线部件;部件升降机构,相对改变所述天线部件和所述密封盖体间的上下方向上的距离;调谐棒,设置成可插入到所述波导管内;调谐棒驱动机构,移动所述调谐棒能够调整其插入量;匹配控制部,通过控制所述平面天线部件的升降量和所述调谐棒的插入量来进行匹配调整。
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