[发明专利]工件构图方法和装置有效
| 申请号： | 02825034.6 | 申请日： | 2002-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN1605046A | 公开（公告）日： | 2005-04-06 |
| 发明（设计）人： | 托比约恩·桑德斯特罗姆 | 申请（专利权）人： | 麦克罗尼克激光系统公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 瑞典*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在对电磁辐射敏感工件上构图的方法。电磁辐射被辐射到具有多个调制元素(像素)的计算机控制的分划板上。这些像素根据数字描述设置在所述计算机控制的分划板上。在所述工件上产生所述计算机控制的分划板的图像，其中在计算机控制的分划板上的所述像素是沿至少一个特征边缘像素的一部分呈交替状态地设置以便产生较小的地址网格。本发明还涉及到在工件上构图的装置。本发明还涉及到半导体晶片和掩膜。 | ||
| 搜索关键词： | 工件 构图 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用改进的虚拟网格在对电磁辐射敏感的工件上构图的方法，包括动作：-发射电磁辐射到具有多个调制元素(像素)的计算机控制的分划板上，-根据一个数字描述设置所述计算机控制的分划板上的这些像素，-在所述工件上产生所述计算机控制的分划板的图像，其中在所述计算机控制的分划板上的所述像素沿至少一个特征边缘的一部分以交替状态设置以便产生一个较小的地址网格。
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