[发明专利]梯度线圈装置无效
| 申请号： | 02825156.3 | 申请日： | 2002-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN1695067A | 公开（公告）日： | 2005-11-09 |
| 发明（设计）人： | C·L·G·哈姆;J·A·奥维韦格;G·N·皮伦 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;张志醒 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于产生MR装置的梯度磁场的梯度线圈装置，其具有被设置在具有基本上圆形横断面的圆柱体表面上的至少两个梯度线圈。为了使梯度场的调节能够尽可能线性地在待检对象区域中延伸，而不必修改MR装置的整个机械结构并且不必增加馈给梯度线圈装置所需要的功率，建议根据本发明配置这样的梯度线圈，以便于相对于穿过圆柱体纵轴水平展现的中央平面是非对称的。 | ||
| 搜索关键词： | 梯度 线圈 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于产生MR装置的梯度磁场的梯度线圈装置，具有被设置在具有基本上圆形横断面的圆柱体表面(41，42，51，52，61，62)上的至少两个梯度线圈，其特征在于所述梯度线圈(41，42，51，52，61，62)相对于通过圆柱体纵轴(3)的水平位置的中央平面(M)被非对称地实施。
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