[发明专利]用于等离子沉积法处理物件的装置无效
| 申请号： | 02825456.2 | 申请日： | 2002-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN1606793A | 公开（公告）日： | 2005-04-13 |
| 发明（设计）人： | 让－皮埃尔·瓦格特曼 | 申请（专利权）人： | 艾萨帕克控股股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 余全平 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及用于等离子沉积法处理物件的一种装置，所述装置包括：减小压力下的密封处理室(1)，所述处理室的一壁(4)上有一可封闭通道(2)，所述通道可在处理室(1)内、外部之间传送需处理物件(3)；传送空间(5)，所述空间可通过所述通道(2)与处理室(1)相连，以使需处理物件(3)进入处理室(1)之前，先进入传送空间(5)内。本发明的特征在于传送空间(5)由非连续壁(6，7)限定，且相对于处理室(1)是活动的，以能通过处理室(1)的通道(2)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子 沉积 处理 物件 装置 | ||
【主权项】：
1、用于等离子沉积法处理物件的装置，所述装置包括：-一减小压力下的密封处理室(1)，所述处理室的一壁(4)上有一可封闭通道(2)，所述通道允许需处理的物件(3)进出所述处理室(1)，-一传送空间(5)，所述空间可通过所述通道(2)与所述处理室(1)相连，以使所述需处理物件(3)进入所述处理室(1)之前，先进入所述传送空间(5)内，本发明的特征在于，所述传送空间(5)：-由非连续壁(6，7)限定，-相对于所述处理室(1)是活动的，以能通过所述处理室(1)的通道(2)。
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