[发明专利]用于线性化学机械平坦化系统的有槽滚轮无效
| 申请号： | 02826232.8 | 申请日： | 2002-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN1607992A | 公开（公告）日： | 2005-04-20 |
| 发明（设计）人： | 许苍山 | 申请（专利权）人： | 拉姆研究公司 |
| 主分类号： | B24B7/22 | 分类号： | B24B7/22 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈坚 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在本发明的线性化学机械平坦化(CMP)系统中公开了一对滚轮中的每一滚轮的一表面，其包括第一组槽，该第一组槽覆盖了所述滚轮的所述表面的第一部分，其中该第一组槽设有第一间距，其对外朝该滚轮的第一外缘成一角度。所述表面也包括第二组槽，该第二组槽覆盖了所述滚轮的所述表面的第二部分，其中该第二组槽设有第二间距，其对外朝该滚轮的第二外缘成一角度，且该第二间距与该第一间距成远离角度。所述表面还包括第一组侧边通道，沿着所述第一部分布置，及第二组侧边通道，沿着所述第二部分布置。所述第一组侧边通道与所述第一组槽相交，且所述第二组侧边通道与所述第二组槽相交。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 线性 化学 机械 平坦 系统 滚轮 | ||
【主权项】：
1.一种线性化学机械平坦化(CMP)系统，包括：线性抛光带和一对滚轮，该线性抛光带环绕在该对滚轮的每一个上，该对滚轮用于驱动该线性抛光带以平坦化基板，该对滚轮中的每一滚轮的表面都包括：第一组槽，覆盖该滚轮的表面的第一部分，其中该第一组槽设有第一间距，该第一间距向外朝该滚轮的第一外缘成一角度；第二组槽，覆盖该滚轮的表面的第二部分，其中该第二组槽设有第二间距，该第二间距向外朝该滚轮的第二外缘成一角度，且该第二间距与该第一间距成远离角度；第一组侧边通道，沿着所述第一部分布置；以及第二组侧边通道，沿着所述第二部分布置；该第一组侧边通道与该第一组槽相交，且该第二组侧边通道与该第二组槽相交。
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