[发明专利]工件镀层加工的改进方法无效
| 申请号： | 02826377.4 | 申请日： | 2002-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1610765A | 公开（公告）日： | 2005-04-27 |
| 发明（设计）人： | P·舒瓦 | 申请（专利权）人： | EPPRA公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;G21K5/04;C23C16/56 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明是关于一种镀层加工方法，这种镀层加工方法是在含有第一种材料的工件(10)上，覆盖含第二种材料的镀层，它包括至少一次将具有一定厚度的、用来与工件表面材料形成紧密结构的材料(11、13)进行沉积处理的过程(A、A’)，这一过程是利用等离子源与等离子体之间的相互反应实现的。其特征在于每一沉积处理过程(A、A’)之后都伴随着处理过程(B、B’)，在所述处理过程(B、B’)中将工件和材料层(11、13)在处于所选择的能量密度级别的高能量密度离子轰击的脉冲照射下暴露一段有限的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 工件 镀层 加工 改进 方法 | ||
【主权项】：
1.一种涂覆工件(10)的方法，包括在含有第一种材料的工件(10)上，覆盖含第二种材料的镀层，它包括至少一次将具有一定厚度的、与工件表面材料形成紧密结构的材料(11、13)进行沉积的处理过程(A、A’、)，这一过程是利用等离子源与等离子体之间的相互反应实现的，其特征在于每一沉积处理过程(A、A’)之后都伴随着处理过程(B、B’)，在所述处理过程(B、B’)中将工件和材料层(11、13)在处于所选择的能量密度级别下的高能量密度离子轰击的脉冲照射下暴露一段有限的时间。
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