[发明专利]用于图案细微化的涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法无效

专利信息
申请号: 02826382.0 申请日: 2002-12-26
公开(公告)号: CN1610863A 公开(公告)日: 2005-04-27
发明(设计)人: 新堀博;菅田祥树 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/40 分类号: G03F7/40;H01L21/027
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 杨宏军
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种用于图案细微化的涂膜形成剂,以及使用该涂膜形成剂形成细微图案的方法。该涂膜形成剂是一种用于按以下方式形成细微图案的涂膜形成剂:在具有光刻胶图案的基板上涂敷该涂膜形成剂,利用其热收缩作用使光刻胶图案间的间隔缩小后,实质上完全除去该涂膜,形成细微图案,其特征在于含有(a)水溶性聚合物和(b)水溶性交联剂,该交联剂的构造中至少含有1个氮原子。利用本发明,能够提供一种可得到具有以下特性细微图案的涂膜形成剂和使用该涂膜形成剂形成细微图案的方法:即图案尺寸控制性优良,具有良好的外形,以及半导体器件所要求的特性。
搜索关键词: 用于 图案 细微 形成 使用 方法
【主权项】:
1、用于图案细微化的涂膜形成剂,是一种用于按以下方式形成细微图案的涂膜形成剂:将其涂敷在具有光刻胶图案的基板上,利用其热收缩作用缩小光刻胶图案间的间隔后,实质上完全除去该涂膜,形成细微图案,该涂膜形成剂的特征在于,含有(a)水溶性聚合物,(b)水溶性交联剂,该交联剂的结构中至少含有1个氮原子。
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