[发明专利]光催化剂的制造方法和光催化剂的制造装置有效
申请号: | 02826456.8 | 申请日: | 2002-11-29 |
公开(公告)号: | CN1610581A | 公开(公告)日: | 2005-04-27 |
发明(设计)人: | 平冈纯治;高盐稔;福嶋哲弥;野口大辅;川又由雄 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子装置股份有限公司 |
主分类号: | B01J35/02 | 分类号: | B01J35/02;B01J37/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王健 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的光催化剂的制造方法,通过形成非晶的氧化钛,在含氧气氛中进行热处理,可以得到具有良好光催化作用的光催化剂。特别是利用反应性溅射法,在低温下以高成膜速度进行堆积,得到非晶的氧化钛。使用设有冷却手段的溅射装置,可以提高成膜工序的产量。 | ||
搜索关键词: | 光催化剂 制造 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种制造光催化剂的方法,其特征在于,包括:在基体上形成非晶氧化钛的第1工序、和在含有氧的气氛中加热所述氧化钛从而使其至少一部分结晶化的第2工序。
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