[发明专利]臭氧处理装置

摘要

本发明是关于一种臭氧处理装置，是对半导体基板或液晶基板等的基板表面吹送臭氧气体，来进行氧化膜的形成或改性、抗蚀膜的去除等处理。臭氧处理装置1，是由用以载置基板K的载置台20，用以将载置台20上的基板K加热的加热装置，与载置台20上的基板K呈对向配置、且具有开口于与基板K对向的面并将臭氧气体朝基板K喷出的喷出口的多个对向板40，以及对各对向板40的喷出口供给臭氧气体而使得气体喷出气体供给装置60所构成。各对向板40是以邻接的对向板40间形成间隙的方式配置在同一平面内。对向板40的体积小，即使对向板40与基板K之间发生热移动，由于对向板40与基板K可在短时间达成热平衡状态，所以基板K的温度管理变得容易。

主权项

1.一种臭氧处理装置，其特征在于，是设置以下部分而构成：载置台，是用以载置基板；加热机构，是用以将所述载置台上的基板加热；对向板，是与所述载置台上的基板呈对向配置，同时具有开口于与所述基板对向的面、并将含有臭氧的处理气体朝所述基板喷出的多个喷出口，和设于所述喷出口间、表里贯通的贯通孔；以及气体供给机构，是对所述对向板的各喷出口供给所述处理气体而使得气体喷出。