[发明专利]X射线形貌测绘系统有效
| 申请号： | 02827902.6 | 申请日： | 2002-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN1628245A | 公开（公告）日： | 2005-06-15 |
| 发明（设计）人： | 戴维·基思·鲍恩;马修·沃明顿;拉吉斯拉夫·皮纳;彼得拉勒·佩什廷盖尔 | 申请（专利权）人： | 比德科学仪器有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/20 | 分类号： | G01N23/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 韩宏 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 一种X射线形貌测绘系统，该系统包括X射线发生器用来产生X射线射束，并照射在样本例如是硅晶片的有限的区域上。固态检测器被设置以截断在透射穿过样本或者从样本反射来的射束。该检测器具有与射束区域相匹配的像素阵列以产生所述有限区域的数字图像。在X射线发生器和样本之间的相对步进运动产生一系列被合并在一起的数字图像。在任选实施例中，置入一X射线光学元件以产生平行射束，以避免图像重叠，或者通过软件来消除图像重叠的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 形貌 测绘 系统 | ||
【主权项】：
1.一种X射线形貌测绘系统，包括：X射线发生器，用来产生被引导向一样本位置的X射线的射束；以及检测器，该检测器被定位以接收由所述样本位置处的样本所偏转的X射线，该检测器包括具有对应于检测器处的射束区域的象素阵列的电子X射线检测器。
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