[发明专利]应用负微分电阻场效应晶体管的存储单元无效
申请号: | 02828012.1 | 申请日: | 2002-12-19 |
公开(公告)号: | CN1618106A | 公开(公告)日: | 2005-05-18 |
发明(设计)人: | 金绪杰(音译) | 申请(专利权)人: | 普罗格瑞森特技术公司 |
主分类号: | G11C11/00 | 分类号: | G11C11/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 付建军 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了一种既使用负微分电阻(NDR)又使用传统FET的存储单元。一对NDR FET以锁存配置连接在一起,以便将传送FET所传送的数据值存储到存储节点。采用NDR特性,可以利用更少的有源器件实现存储单元。此外,利用传统MOS处理步骤,可以制造NDR FET,因此与传统NDR技术相比,可以将工艺集成问题减到最少。 | ||
搜索关键词: | 应用 微分 电阻 场效应 晶体管 存储 单元 | ||
【主权项】:
1.一种存储单元,该存储单元包括:传输场效应晶体管(FET),所述传输场效应晶体管(FET)被配置成响应分别提供给存储单元的写和/或读信号,接收和/或传输从数据线到存储节点的数据值;第一负微分电阻(NDR)FET,所述第一NDR FET被配置成接收第一栅极偏置信号,而且其第一NDR FET源极端连接到所述存储节点,而其第一NDR FET漏极端连接到在第一节点的第一电压电位;以及第二负微分电阻(NDR)FET,所述第二NDR FET被配置成接收第二栅极偏置信号,而且其第二NDR FET漏极端连接到所述存储节点,而其第二NDR FET漏极端连接到在第二节点的第二电压电位;而且其中存储单元利用所述第一NDR FET和所述第二NDR FET的所述负微分电阻特性将所述数据值存储到所述存储节点。
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