[发明专利]用于发光的配置和方法无效
申请号: | 02828020.2 | 申请日: | 2002-12-10 |
公开(公告)号: | CN1618113A | 公开(公告)日: | 2005-05-18 |
发明(设计)人: | T·弗兰克 | 申请(专利权)人: | 光实验室公司 |
主分类号: | H01J17/00 | 分类号: | H01J17/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 温大鹏 |
地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | 本发明涉及一种发光的配置,包括包括透明或半透明窗口(10)的气密密封壳体(4);布置在所述壳体内并覆盖所述窗口至少主要部分的一层荧光物质(3);布置在所述壳体内以便发射电子的电子发射阴极(1);所述壳体填充适用于电子雪崩放大的气体;所述阴极和阳极在使用期间保持在电位下,使得所述发射的电子加速并在所述气体中雪崩放大;所述层布置成穿过所述窗口发光以响应雪崩放大的电子的冲击和/或响应暴露于紫外光下,紫外光是由于雪崩放大的电子和该气体之间的相互作用而在气体中发射的。 | ||
搜索关键词: | 用于 发光 配置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种发光的配置,包括:包括透明或半透明窗口(10)的气密密封壳体(4);布置在所述壳体内并覆盖所述窗口至少主要部分的一层荧光物质(3);布置在所述壳体内以便发射电子的电子发射阴极(1);以及其特征在于,所述壳体填充适用于电子雪崩放大的气体;所述阴极和阳极在使用期间保持在电位下,使得所述发射的电子加速并在所述气体中雪崩放大;以及所述层布置成穿过所述窗口发光以响应雪崩放大的电子的冲击和/或响应暴露于紫外光下,紫外光是由于雪崩放大的电子和该气体之间的相互作用而在气体中发射的。
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