[发明专利]化合物半导体单晶的制备方法有效

专利信息
申请号: 02828062.8 申请日: 2002-12-17
公开(公告)号: CN1701042A 公开(公告)日: 2005-11-23
发明(设计)人: 朝日聪明;佐藤贤次;荒川笃俊 申请(专利权)人: 株式会社日矿材料
主分类号: C03B15/12 分类号: C03B15/12;C30B29/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 郭煜;庞立志
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 按照液封直拉法制备化合物半导体单晶的方法:在由带底圆筒形的第1坩埚和设置于该第1坩埚的内侧、在底部设有与上述第1坩埚的连通孔的第2坩埚构成的原料熔融液盛装部分中盛装半导体原料和密封剂,加热上述原料盛装部分使原料熔融,在被上述密封剂覆盖的状态下使籽晶与该原料熔融液表面接触,一边提拉该籽晶,一边使晶体生长,在该方法中,控制加热器的温度,使生长晶体的直径与上述第2坩埚的内径大致相同,一边保持生长晶体的表面被上述密封剂覆盖的状态一边使晶体生长,直到晶体生长结束。
搜索关键词: 化合物 半导体 制备 方法
【主权项】:
1.化合物半导体单晶的制备方法,该方法是通过液封直拉法制备化合物半导体单晶的方法:在由带底圆筒形第1坩埚和设置于该第1坩埚的内侧、在底部设有与上述第1坩埚的连通孔的第2坩埚构成的原料熔融液盛装部分中盛装半导体原料和密封剂,加热上述原料盛装部分使原料熔融,在被上述密封剂覆盖的状态下使籽晶与该原料熔融液表面接触,一边提拉该籽晶,一边使晶体生长,其特征在于:控制加热器的温度,使生长晶体的直径与上述第2坩埚的内径大致相同,一边保持生长晶体的表面被上述密封剂覆盖的状态一边使晶体生长,直到晶体生长结束。
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