[发明专利]化合物半导体单晶的制备方法有效
申请号: | 02828062.8 | 申请日: | 2002-12-17 |
公开(公告)号: | CN1701042A | 公开(公告)日: | 2005-11-23 |
发明(设计)人: | 朝日聪明;佐藤贤次;荒川笃俊 | 申请(专利权)人: | 株式会社日矿材料 |
主分类号: | C03B15/12 | 分类号: | C03B15/12;C30B29/48 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 郭煜;庞立志 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 按照液封直拉法制备化合物半导体单晶的方法:在由带底圆筒形的第1坩埚和设置于该第1坩埚的内侧、在底部设有与上述第1坩埚的连通孔的第2坩埚构成的原料熔融液盛装部分中盛装半导体原料和密封剂,加热上述原料盛装部分使原料熔融,在被上述密封剂覆盖的状态下使籽晶与该原料熔融液表面接触,一边提拉该籽晶,一边使晶体生长,在该方法中,控制加热器的温度,使生长晶体的直径与上述第2坩埚的内径大致相同,一边保持生长晶体的表面被上述密封剂覆盖的状态一边使晶体生长,直到晶体生长结束。 | ||
搜索关键词: | 化合物 半导体 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.化合物半导体单晶的制备方法,该方法是通过液封直拉法制备化合物半导体单晶的方法:在由带底圆筒形第1坩埚和设置于该第1坩埚的内侧、在底部设有与上述第1坩埚的连通孔的第2坩埚构成的原料熔融液盛装部分中盛装半导体原料和密封剂,加热上述原料盛装部分使原料熔融,在被上述密封剂覆盖的状态下使籽晶与该原料熔融液表面接触,一边提拉该籽晶,一边使晶体生长,其特征在于:控制加热器的温度,使生长晶体的直径与上述第2坩埚的内径大致相同,一边保持生长晶体的表面被上述密封剂覆盖的状态一边使晶体生长,直到晶体生长结束。
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