[发明专利]高密度光磁记录再现装置及高密度光磁记录再现方法无效
申请号: | 02828929.3 | 申请日: | 2002-07-03 |
公开(公告)号: | CN1625772A | 公开(公告)日: | 2005-06-08 |
发明(设计)人: | 板仓昭宏 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
主分类号: | G11B11/105 | 分类号: | G11B11/105 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 赵淑萍 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供一种高密度光磁记录再现装置及高密度光磁记录再现方法,所述装置和方法可以使从记录介质再现的标记的边缘位置不发生变化地向记录介质记录标记。为了达到所述目的,向光磁记录介质记录信息标记或者再现该信息标记的光磁记录再现装置包括:判断记录信息标记的长度的单元;以及根据在该记录信息标记之前已记录的标记的长度来改变记录该标记的记录磁场强度的单元。 | ||
搜索关键词: | 高密度 记录 再现 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种向光磁记录介质记录信息标记以及再现该记录标记的光磁记录再现装置,其利用激光和磁场向光磁记录介质记录信息标记以及再现该记录标记,其特征在于,包括:判断记录信息标记的长度的单元;以及根据在该记录信息标记的紧前面记录的标记的长度来改变记录该标记的记录磁场强度的单元。
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