[发明专利]用于向半导电介质材料施加射频电磁场的工业设备无效
申请号: | 02829037.2 | 申请日: | 2002-05-28 |
公开(公告)号: | CN1628490A | 公开(公告)日: | 2005-06-15 |
发明(设计)人: | 阿莱桑德罗·托内洛 | 申请(专利权)人: | 斯塔拉姆股份公司 |
主分类号: | H05B6/80 | 分类号: | H05B6/80;A23B4/01;A23L3/01 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 郭思宇 |
地址: | 意大利*** | 国省代码: | 意大利;IT |
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摘要: | 用于向半导电介质材料施加射频电磁场的工业设备包括一个射频电压发电机(10)和一个用来施加射频电磁场的施加部件(1)。该施加部件(1)包括多个电极(12,13,14,15),电气上和该发电机(10)连接,该发电机用于在它们产生带有择优方向下的电分量和磁分量的射频电磁场。该施加部件(1)还包括至少一对大致沿该择优方向对齐的等电位电极(12,14)以及用于在和该择优方向大致平行的方向在该施加部件(1)内容纳并输送半导电介质材料的材料输送装置(32)。 | ||
搜索关键词: | 用于 导电 介质 材料 施加 射频 电磁场 工业 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于向半导电介质材料施加射频电磁场的施加部件,包括:多个电极(12,13,14,15),它们使用中和发电机(10)连接,该发电机用来在它们之间沿择优方向产生包含电分量和磁分量的射频电磁场,以及用于容纳和输送半导电介质材料的材料输送装置(32),其特征在于还包括:在该择优方向大致对齐排列的至少一对等电位电极(12,14),并且该材料输送装置(32)在该施加部件(1)内沿大致和该择优方向平行的方向输送该材料。
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