[发明专利]喷嘴装置及具有喷嘴装置的基板处理装置无效
| 申请号： | 02829087.9 | 申请日： | 2002-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN1627993A | 公开（公告）日： | 2005-06-15 |
| 发明（设计）人： | 水川茂;村田贵;中田胜利;松元俊二;赤坂丈士 | 申请（专利权）人： | 住友精密工业株式会社 |
| 主分类号： | B05B1/14 | 分类号： | B05B1/14;B05C5/00;B65G49/07;H01L21/027;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳;王雪燕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是关于能防止涂敷结束时的液体滴落，用少量的处理液可在基板上形成膜厚度均匀的处理液膜的喷嘴装置及基板处理装置。喷嘴装置(10)，具有在下面形成的多个排出口(18)、将所供应的处理液滞留的液体滞留室(22)、与所述各排出口(18)分别连通，使处理液从各排出口(18)排出的多个液体排出流路(17)。各个液体排出流路(17)的上端设置为高于所述液体滞留室(22)的上端，他们通过连接通道(23)相互连通。并且，连接通道(23)内部的最低高度设定为0.05mm以上0.2mm以下，所述各个液体排出流路(17)的最小口径设定为0.35mm以上1.0mm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 装置 具有 处理 | ||
【主权项】：
1.一种喷嘴装置，其具有长形的喷嘴主体，且从该喷嘴主体排出处理液，涂敷到被处理物上，其特征在于，所述喷嘴主体具有形成在其下面且沿着长边方向排列的多个排出口；使所供应的处理液滞留的液体滞留室；以及与所述各排出口分别单独连通，使处理液流通并可从所述排出口排出的多个液体排出流路，所述液体滞留室和各个液体排出流路相互平行设置，且所述各个液体排出流路的上端配置为高于所述液体滞留室的上端，同时所述液体滞留室的上端部和所述各个液体排出流路的上端部通过连接通道相互连通，进而，所述连接通道内部的最低高度设定为0.05mm以上0.2mm以下，所述各个排出流路的最小口径设定为0.35mm以上1.0mm以下。
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