[发明专利]使用多级和空间填充形状元件的取样不足微带阵列无效

专利信息
申请号: 02829211.1 申请日: 2002-07-15
公开(公告)号: CN1630963A 公开(公告)日: 2005-06-22
发明(设计)人: 乔米·安哥拉普罗斯;卡尔斯·普恩特巴利亚达;玛丽亚-卡曼·博加博劳 申请(专利权)人: 弗拉克托斯股份有限公司
主分类号: H01Q21/06 分类号: H01Q21/06;H01Q5/00;H01Q21/30;H01Q9/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 秦晨
地址: 西班牙圣库加*** 国省代码: 西班牙;ES
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种取样不足的微带阵列,使用基于分形振子几何结构的多级合空间填充形状的贴片元件,比使用传统元件如正方形或圆形贴片能够获得的方向性,在相同的电子区域内获得了相同的方向性。然而,对于基于分形振子阵列的元件数目不能降低馈电网络和整体网络的复杂性。可以降低互耦合以避免辐射图形的畸变。由于在馈电网络中小的复杂性,比在相同电子区使用传统贴片元件获得的增益,可以获得更高的增益。
搜索关键词: 使用 多级 空间 填充 形状 元件 取样 不足 微带 阵列
【主权项】:
1.一种天线阵列,以多级和/或空间填充形状贴片天线元件为特征,所述元件比波长的一半要大(提到的所述波长在所述贴片和它的混合接地面之内),所述多级和/或空间填充元件与最近的元件间距大于0.9λ,至少是其操作波长之一。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于弗拉克托斯股份有限公司,未经弗拉克托斯股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02829211.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top