[发明专利]作为硬掩模层的抗反射含硅组合物有效
| 申请号： | 02829300.2 | 申请日： | 2002-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN100339213C | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | M·安杰洛波洛斯;A·阿里拉姆;C·R·瓜里涅里;黄武松;R·夸昂;W·M·莫罗 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | B32B9/04 | 分类号： | B32B9/04;B05D5/00;C08J7/18;C08G77/04;G03C1/76 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 特征为存在一种具有侧发色团部分的含SiO聚合物的抗反射组合物在光刻工艺中是有用的抗反射涂料/硬掩模组合物。这些组合物提供突出的光学，机械和蚀刻敏感性性能，同时能够使用旋涂施加技术施加。该组合物特别用于光刻工艺，该光刻工艺用于在衬底，特别地金属或半导体层上配置底层材料层。 | ||
| 搜索关键词： | 作为 硬掩模层 反射 组合 | ||
【主权项】：
1.一种适用于旋涂抗反射层形成的组合物，该组合物包括：(a)包含SiO部分和发色团部分的聚合物，其中该聚合物包括多个沿聚合物分布的用于与交联组分反应的反应性部位，(b)交联组分，和(c)酸产生剂。
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