[发明专利]可见光吸收膜和有该可见光吸收膜的结构体及形成该可见光吸收膜的可见光吸收油墨有效
| 申请号： | 02829481.5 | 申请日： | 2002-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN1650194A | 公开（公告）日： | 2005-08-03 |
| 发明（设计）人： | 武田广充;矢吹佳世 | 申请（专利权）人： | 住友金属矿山株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/22 | 分类号： | G02B5/22;B32B7/02;C09D11/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;潘培坤 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的可见光吸收膜，由在基材的单面或者两面涂敷的可见光吸收油墨形成，该基材具有日光反射性且可见光反射率在10％以上，可见光反射率降低程度在0.9以下，该可见光反射率降低程度定义为：可见光反射率降低程度＝[上述油墨涂布后的可见光反射率(％)]/[上述油墨涂布之前的可见光反射率(％)]，日光反射率降低程度在0.25以上，该日光反射率降低程度定义为：日光反射率降低程度＝[上述油墨涂布之后的日光反射率(％)]/[上述油墨涂布之前的日光反射率(％)]。 | ||
| 搜索关键词： | 可见 光吸收 结构 形成 油墨 | ||
【主权项】：
1.一种可见光吸收膜，其特征在于：由涂敷在基材的单面或者两面的可见光吸收油墨形成，该基材具有日光反射性且其可见光反射率为10％或其以上，由可见光反射率降低程度＝[上述油墨涂布后的可见光反射率(％)]/[上述油墨涂布前的可见光反射率(％)]定义的可见光反射率降低程度为0.9或其以下，由日光反射率降低程度＝[上述油墨涂布后的日光反射率(％)]/[上述油墨涂布前的日光反射率(％)]定义的日光反射率降低程度为0.25或其以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友金属矿山株式会社，未经住友金属矿山株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02829481.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种银行主机运行压力测试系统
- 下一篇：干涉型硅基芯片微光学陀螺
