[发明专利]用于电子基平版印刷术的高灵敏性抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 02829997.3 | 申请日： | 2002-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN1836191A | 公开（公告）日： | 2006-09-20 |
| 发明（设计）人： | 黄武松;李文杰;韦恩·莫若;戴维·E·梅代罗斯;卡伦·E·皮特里洛;罗特伯特·N·兰;玛丽·安杰洛波洛斯 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 美国纽*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种抗蚀剂组合物，其具有酸敏性成像聚合物和辐射敏感性产酸剂组分，该辐射敏感性产酸剂组分包括：(i)第一辐射敏感性产酸剂，其选自抑制溶解的产酸剂，和(ii)第二辐射敏感性产酸剂，其选自不受保护的酸基官能化产酸剂和受酸不稳定基团保护的酸基官能化辐射敏感性产酸剂；这种组合物能够形成适用于EPL、EUV、软X射线和其他能量强度低的平版印刷成像领域的高灵敏性抗蚀剂。这些抗蚀剂组合物还可用在其他平版印刷方法中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电子 平版 印刷术 灵敏性 抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1、一种抗蚀剂组合物，其包括(a)成像聚合物，和(b)辐射敏感性产酸剂组分，该辐射敏感性产酸剂组分包括：(i)第一辐射敏感性产酸剂，其选自抑制溶解的产酸剂，和(ii)第二辐射敏感性产酸剂，其选自不受保护的酸基官能化辐射敏感性产酸剂和受酸不稳定基团保护的酸基官能化辐射敏感性产酸剂。
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