[发明专利]碳－碳双键的氧化方法和氧化化合物的制造方法有效
| 申请号： | 02830103.X | 申请日： | 2002-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN1717398A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 小口亘;西诚;户次幸治 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C07D301/12 | 分类号： | C07D301/12;C07D301/19;C07D303/04 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供控制具有碳－碳双键的化合物的转化率，在将未反应的化合物与生成物分离后，再用于氧化反应的碳－碳双键的氧化方法，及使用该氧化方法的氧化化合物的制造方法。由此，可以高选择性和高生产率来获得作为目标的氧化化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 双键 氧化 方法 化合物 制造 | ||
【主权项】：
1.一种化合物A的碳-碳双键的氧化方法，是将至少具有两个或其以上官能团的化合物，该官能团中的至少一个为碳-碳双键的化合物(以下简称为“化合物A”)的碳-碳双键进行氧化的方法，该氧化方法包含以下第一工序～第三工序，第一工序：在钛硅酸盐催化剂存在下，使用过氧化物作为氧化剂，在化合物A的转换率在小于等于50％mol的范围内进行化合物A的碳-碳双键的氧化反应，来获得氧化反应混合物的工序；第二工序：从第一工序所得到的氧化反应混合物中分离化合物A的工序；第三工序：将在第二工序中得到的化合物A返回到第一工序的工序。
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