[发明专利]用于测量多层重叠对准精确度的重叠游标图案及测量方法有效
申请号: | 03100083.5 | 申请日: | 2003-01-07 |
公开(公告)号: | CN1445819A | 公开(公告)日: | 2003-10-01 |
发明(设计)人: | 陈子清 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;H01L21/66;H01L21/82;G03F7/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈红 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于测量多层重叠对准精确度的重叠游标图案及测量方法,该方法测量一第一材料层上的一第一对准标记与一第二材料层上的一第二对准标记间的距离,以获得该第一材料层与该第二材料层间的对准偏移量;另外,该方法亦可测量该第二材料层上的该第二对准标记与一第三材料层上的一第三对准标记间的距离,以获得该第二材料层与该第三材料层间的对准偏移量;由于在测量该第一材料层与第二材料层间的对准精确度及测量该第二材料层与该第三材料层间的对准精确度时,该第二对准标记可被重复使用,因此便可节省用来形成对准标记的切割道面积及测量时间,而增加产品的生产率。 | ||
搜索关键词: | 用于 测量 多层 重叠 对准 精确度 游标 图案 测量方法 | ||
【主权项】:
1.一种用来测量多层重叠对准精确度的重叠游标图案,其特征是:其包括:复数个第一对准标记设于一第一材料层上;复数个第二对准标记设于一第二材料层上,且该第二材料层覆盖于该第一材料层上;以及复数个第三对准标记设于一第三材料层上,且该第三材料层覆盖于该第二材料层上;其中一第一对准标记与一相对应的第三对准标记间的距离用来测量该第一材料层与该第三材料层的对准偏差,而该第三对准标记与一相对应的第二对准标记间的距离则是用来测量该第三材料层与该第二材料层的对准偏差。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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