[发明专利]光刻胶脱膜组成物及使用该组成物的模型形成方法有效
| 申请号： | 03100275.7 | 申请日： | 2003-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN1515963A | 公开（公告）日： | 2004-07-28 |
| 发明（设计）人： | 吉埈仍;任兴彬 | 申请（专利权）人： | 吉埈仍;任兴彬 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/42;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种组成物以及使用上述组成物的模型形成方法，组成物的目的是为了对在光平板印刷的掩膜中使用的光刻胶进行脱膜。组成物含有烷醇胺、吗啉氧化物系化合物、抑制剂和去离子水。因此，使用上述组成物在被加工物上面除去残留的光刻胶层时，能使光刻胶性残留物残留最少化。此外，上述组成物能除去在蚀刻室或者灰化室内残留的残留物，在清洗中也能积极地得到应用。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶脱膜 组成 使用 模型 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶脱膜组成物，其特征是，含有烷醇胺、吗啉氧化物系化合物、抑制剂化合物和去离子水。
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