[发明专利]反射式电光装置和电子设备有效
| 申请号： | 03100710.4 | 申请日： | 2003-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN1434337A | 公开（公告）日： | 2003-08-06 |
| 发明（设计）人： | 二村徹 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;G02F1/1345;H01L29/786 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩,陈海红 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供借助预先使凹凸形成层的下层侧的状态均一化，在利用光刻技术形成凹凸形成层时，凹凸形状上不会产生不均一的反射式电光装置和电子设备。在反射式电光装置的TFT阵列基板(10)中，用来把凹凸图形赋予在光反射膜(8a)上的凹凸形成层(13a)，采用对感光性树脂(13)进行半曝光、显影和加热的办法形成。由于在凹凸形成层(13a)的下层侧，高低差、台阶已借助高低差消除膜(3f)被消除，故可以适当地对感光性树脂(13)进行曝光。另外，由于高低差已消除，感光性树脂(13)的厚度不均一度小，故凹凸形状的不均一度也较小。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 电光 装置 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种反射式电光装置，在挟持电光物质的基板上，按每个像素至少形成有电连到一个或多个布线上的象素切换用的有源元件和光反射膜，在该光反射膜的下层侧、与该光反射膜平面重叠的区域上，形成了将规定的凹凸图形赋予上述光反射膜的表面的凹凸形成层的反射式电光装置中，其特征在于：在上述凹凸形成层的下层侧、与该凹凸形成层平面重叠的区域内，形成用来消除由于形成上述有源元件的导电膜的有无所造成的高低差的高低差消除膜，在该高低差消除膜中，形成有构成上述布线的导电膜、构成上述有源元件的导电膜、和绝缘膜中的至少一层。
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