[发明专利]用于快速在线电光检测晶片缺陷的方法和系统无效

专利信息
申请号: 03100994.8 申请日: 2003-01-15
公开(公告)号: CN1518085A 公开(公告)日: 2004-08-04
发明(设计)人: 加德·诺伊曼 申请(专利权)人: 内格夫技术有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王敬波
地址: 以色列*** 国省代码: 以色列;IL
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摘要: 一种晶片缺陷快速在线电光检测方法和系统,其特征在于,用一个来自一个重复脉冲激光器的短光脉冲照明一个带有显微光学系统的电光相机系统的视场,以及把一个运动的晶片成像到一个焦平面组件上,该焦平面组件用光学方法在光学成像系统的焦平面上形成一个光探测器表面,该表面由6个探测器集合形成,每个集合包含一个由4个2维CCD矩阵光探测器组成的阵列,其中每个2维CCD矩阵光探测器都产生一个含有2兆个像素的大矩阵形式的电子图像,使得可以用常规的图像处理技术并行地处理由各个不同的CCD矩阵探测器同时产生的图像,该处理用于把被成像的视场与另一个用作参考的视场相比较,目的是找出表明存在晶片模缺陷的相对应像素之间的差别。
搜索关键词: 用于 快速 在线 电光 检测 晶片 缺陷 方法 系统
【主权项】:
1、一种用于检测含有多个相同区域的物体的检测系统,它包括:一个成像器,它能在上述物体被照明并沿一条运动路径运动时对上述物体的上述多个相同区域成像;一个运载器,用于提供上述成像器与上述物体之间沿上述运动路径的相对运动;一个脉冲激光器物体照明器,用于照明沿着上述运动路径运动着的上述物体;以及一个图像比较器,用于比较上述多个相同区域的各个区域的像。
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