[发明专利]采用局部全息照相的层压框架无效

专利信息
申请号: 03101841.6 申请日: 2003-01-22
公开(公告)号: CN1495582A 公开(公告)日: 2004-05-12
发明(设计)人: 金重亨 申请(专利权)人: 国一特殊纸株式会社;金重亨
主分类号: G03H1/06 分类号: G03H1/06;A47G1/14
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 代理人: 刘激扬
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种采用局部全息照相的层压框架,在该框架中放置着照片或者图片。该层压框架包括:具有所需尺寸的第一层压膜;支撑板,它被粘附到第一层压膜上并且它的尺寸稍稍小于层压膜的尺寸;局部全息照相膜,它被设置在支撑板上,并且具有边缘和透明窗,该边缘被粘附到第一层压膜上,而透明窗的尺寸稍稍小于支撑板的尺寸,其中该透明窗由若干点型全息照相像素构成图案,而该边缘在它的上表面和下表面上由若干着色较深的全息照相像素构成图案;及第二层压膜,它被粘附到局部全息照相膜上。
搜索关键词: 采用 局部 全息照相 层压 框架
【主权项】:
1.一种采用局部全息照相的层压框架,在该框架中放置着照片或者图片,该层压框架包括:具有所需尺寸的第一层压膜;支撑板,它被粘附到第一层压膜上并且它的尺寸稍稍小于第一层压膜的尺寸;局部全息照相膜,它被设置在支撑板上,并且具有边缘和透明窗,该边缘被粘附到第一层压膜上,而该透明窗的尺寸稍稍小于支撑板的尺寸,其中该透明窗由若干点型全息照相像素构成图案,而该边缘在它的上表面和下表面上由若干着色较深的全息照相像素构成图案;及第二层压膜,它被粘附到局部全息照相膜上。
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