[发明专利]二维光波导路径及其制造方法有效
申请号: | 03102505.6 | 申请日: | 2003-02-08 |
公开(公告)号: | CN1437033A | 公开(公告)日: | 2003-08-20 |
发明(设计)人: | 内田達郎 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B6/12 | 分类号: | G02B6/12;G02B6/136;G02B6/35;G02B6/42;H01L27/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 罗亚川 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及二维光波导路径及其制造方法。二维光波导路径的制造方法,它的特征是它是二维光波导路径的制造方法,具有准备好在基片(100)上备有包含热可塑性材料构成的构造体(102)的部件的第1工序,通过热处理使该构造体变形的第2工序,和在该构造体和该基片上形成光波导部分(112)的第3工序。 | ||
搜索关键词: | 二维 波导 路径 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.二维光波导路径的制造方法,它的特征是它是二维光波导路径的制造方法,具有准备好在基片上备有包含热可塑性材料构成的构造体的部件的第1工序,通过热处理使该构造体变形的第2工序,和在该构造体和该基片上形成光波导部分的第3工序。
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