[发明专利]一种闪存单元及其操作方法无效
申请号: | 03102695.8 | 申请日: | 2003-02-14 |
公开(公告)号: | CN1521853A | 公开(公告)日: | 2004-08-18 |
发明(设计)人: | 洪至伟;宋达;许正源 | 申请(专利权)人: | 力晶半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8247 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 戈泊;程伟 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种闪存单元,包括一基底、一选择栅极、一第一型离子掺杂区、一第二型离子浅掺杂区、一第二型离子深掺杂区以及一源极掺杂区。其中,基底具有一堆叠式栅极(stackedgate);选择栅极形成于基底上并位于堆叠式栅极的一侧;第一型离子掺杂区位于基底中并与选择栅极邻设,以作为闪存单元的漏极;第二型离子浅掺杂区位于堆叠式栅极下方并与第一型离子掺杂区连接;第二型离子深掺杂区位于第一型离子掺杂区周围,并与第二型离子浅掺杂区连接;而源极掺杂区邻设于第二型离子浅掺杂区一侧以作为闪存单元的源极。另外,本发明还揭露一种上述闪存单元的操作方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 闪存 单元 及其 操作方法 | ||
【主权项】:
1、一种闪存单元,其特征在于,其包含:一基底,其具有一堆叠式栅极;一选择栅极,其形成于该基底上并位于该堆叠式栅极的一侧;一第一型离子掺杂区,其位于该基底中并邻设于该选择栅极,以作为该闪存单元的漏极;一第二型离子浅掺杂区,其位于该堆叠式栅极下方并与该第一型离子掺杂区连接;一第二型离子深掺杂区,其位于该第一型离子掺杂区周围,并与该第二型离子浅掺杂区连接;以及一源极掺杂区,其邻设于该第二型离子浅掺杂区一侧以作为该闪存单元的源极。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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