[发明专利]一种闪存单元及其操作方法无效

专利信息
申请号: 03102695.8 申请日: 2003-02-14
公开(公告)号: CN1521853A 公开(公告)日: 2004-08-18
发明(设计)人: 洪至伟;宋达;许正源 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 戈泊;程伟
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种闪存单元,包括一基底、一选择栅极、一第一型离子掺杂区、一第二型离子浅掺杂区、一第二型离子深掺杂区以及一源极掺杂区。其中,基底具有一堆叠式栅极(stackedgate);选择栅极形成于基底上并位于堆叠式栅极的一侧;第一型离子掺杂区位于基底中并与选择栅极邻设,以作为闪存单元的漏极;第二型离子浅掺杂区位于堆叠式栅极下方并与第一型离子掺杂区连接;第二型离子深掺杂区位于第一型离子掺杂区周围,并与第二型离子浅掺杂区连接;而源极掺杂区邻设于第二型离子浅掺杂区一侧以作为闪存单元的源极。另外,本发明还揭露一种上述闪存单元的操作方法。
搜索关键词: 一种 闪存 单元 及其 操作方法
【主权项】:
1、一种闪存单元,其特征在于,其包含:一基底,其具有一堆叠式栅极;一选择栅极,其形成于该基底上并位于该堆叠式栅极的一侧;一第一型离子掺杂区,其位于该基底中并邻设于该选择栅极,以作为该闪存单元的漏极;一第二型离子浅掺杂区,其位于该堆叠式栅极下方并与该第一型离子掺杂区连接;一第二型离子深掺杂区,其位于该第一型离子掺杂区周围,并与该第二型离子浅掺杂区连接;以及一源极掺杂区,其邻设于该第二型离子浅掺杂区一侧以作为该闪存单元的源极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力晶半导体股份有限公司,未经力晶半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03102695.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top