[发明专利]构成两个金属结构的电接触的方法无效
| 申请号： | 03102799.7 | 申请日： | 2003-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN1437285A | 公开（公告）日： | 2003-08-20 |
| 发明（设计）人： | 阿尔费雷德·鲍尔;霍斯特·哈特曼;京特·科洛德赛;米夏埃尔·拉贝 | 申请（专利权）人： | W·C·贺利氏股份有限及两合公司 |
| 主分类号： | H01R4/00 | 分类号： | H01R4/00;H01R4/18;H01R43/00;H01R43/04;H05K3/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 楼仙英,曾建成 |
| 地址： | 联邦德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及构成两个金属结构的电接触的方法，其中至少一个金属结构在其面对第二金属结构的一面上设有从平面突出的键合区，电绝缘层设置在金属结构之间，一个金属结构层压到电绝缘层上，之后或同时将第二金属结构层压到电绝缘层上，并且在第二金属结构层压到电绝缘层上的同时两个金属结构电接触。 | ||
| 搜索关键词： | 构成 两个 金属结构 接触 方法 | ||
【主权项】：
1.构成两个金属结构的电接触的方法，其中，至少一个金属结构在其面对第二金属结构的一面上设有从平面突出的接触区，电绝缘层设置在金属结构之间，一个金属结构层压到电绝缘层上，之后或同时将第二金属结构层压到电绝缘层上，并且在进行第二金属结构层压到电绝缘层上的同时两个金属结构电接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于W·C·贺利氏股份有限及两合公司，未经W·C·贺利氏股份有限及两合公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03102799.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
