[发明专利]利用间隔体技术的纳米尺寸压印模有效
| 申请号： | 03103150.1 | 申请日： | 2003-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN1435728A | 公开（公告）日： | 2003-08-13 |
| 发明（设计）人： | H·李 | 申请（专利权）人： | 惠普公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京,黄力行 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种大面积纳米尺寸压印模。大面积纳米尺寸压印模包括具有基部表面的基底，在基部表面上形成多个微特征。每个微特征包括多个淀积在其相对侧表面上的间隔体。间隔体从相对的侧表面侧向朝外延伸而微特征和间隔体从基部表面向外延伸。选择性地蚀刻微特征和间隔体以便产生高度差从而限定具有印记轮廓的压印模。可以在基底的基本上所有可用面积上形成压印模，压印模可以有在各压印模之间变化的复杂形状。可以将压印模用作模板把印记轮廓传递给掩膜层，在掩膜层中将复制出印记轮廓。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 间隔 技术 纳米 尺寸 压印 | ||
【主权项】：
1.一种大面积纳米尺寸压印模，包括：包括具有可用面积的基部表面的基底；与基部表面接触并从其上延伸出的多个压印模，压印模互相隔开一定的距离并这样定位，使它们占据基本上所有的可用面积，每个压印模具有预定的形状并包括具有相对侧表面的微特征和多个从所述相对的侧表面侧向朝外延伸的间隔体，微特征和间隔体从基部表面向外伸出，微特征和间隔体的高度和宽度在各微特征和间隔体之间是变化的从而限定印记轮廓。
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