[发明专利]用于形成金属氧化物薄膜的使用醇的化学气相沉积法无效
申请号: | 03103568.X | 申请日: | 2003-01-29 |
公开(公告)号: | CN1448533A | 公开(公告)日: | 2003-10-15 |
发明(设计)人: | 闵约赛;曹永真;李正贤 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 贾静环,宋莉 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了一种金属氧化物薄膜的制备方法,其中通过第一反应物和第二反应物之间的化学反应产生的金属氧化物以薄膜形式沉积在基底的表面上。该方法包括将含有金属-有机化合物的第一反应物引入包括基底的反应室;以及引入含醇的第二反应物。由于将不含氧残基的醇蒸汽作为反应气用于薄膜沉积,基底或沉积层的直接氧化被沉积过程中的反应气抑制。并且,因为薄膜通过热分解作用沉积(所述热分解是由醇蒸汽和前体之间的化学反应而引起的),沉积速率很快。特别是当使用带有β-二酮配体的金属-有机化合物作为前体时,沉积速率也很快。此外,因为使用化学蒸汽沉积或原子层沉积方法使得薄膜以超微结构生长,因此得到的薄膜漏电流低。 | ||
搜索关键词: | 用于 形成 金属 氧化物 薄膜 使用 化学 沉积 | ||
【主权项】:
1.一种制备金属氧化物薄膜的方法,包括:将含有金属-有机化合物的第一反应物引入包括基底的反应室;引入含醇的第二反应物,并且其中通过第一反应物和第二反应物之间的化学反应产生的金属氧化物以薄膜形式被沉积在基底的表面上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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