[发明专利]有机抗反射涂层组合物和用该组合物形成光阻图案的方法无效
| 申请号： | 03103572.8 | 申请日： | 2003-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN1469196A | 公开（公告）日： | 2004-01-21 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;申起秀 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;徐金国 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种有机抗反射涂布组合物以及使用该组合物形成光阻图案的方法，该方法能避免下层膜或光阻层的基板产生反射波及降低光和光阻本身厚度不均匀所导致的驻波，从而在半导体装置制造中使用157nm波长的F2光源，利用光阻层进行照相平版形成微光阻图案的过程中，增加了光阻图案的均匀性。本发明特别涉及一种有机抗反射涂布组合物以及使用该组合物形成光阻图案的方法，通过使用包括特殊有机硅－基的聚合物添加到传统的有机抗反射涂布组合物中，可避免抗反射层的过度吸收，从而使膜对光的反射降至最低，有效地消除驻波并增进光阻图案的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 反射 涂层 组合 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种有机抗反射涂布组合物，包括：一提供抗反射层交联结构的交联剂；一在曝光光源波长范围内，具有高光吸收度的光吸收剂；一热酸生成剂；一有机溶剂；以及一聚二甲基硅氧烷聚合物，其结构如式(1)：![]()
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