[发明专利]半导体基板洗净液组合物有效
| 申请号： | 03103788.7 | 申请日： | 2003-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN1439701A | 公开（公告）日： | 2003-09-03 |
| 发明（设计）人： | 阿部优美子;石川典夫;青木秀充;富盛浩昭;笠间佳子 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社;恩益禧电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;H05K3/26 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明该洗净液组合物提供一种可以有效地除去疏水性基板表面的粒子和金属而不腐蚀该疏水性基板。该洗净液组合物用于在其上滴下水时的表面接触角是70度以上的半导体基板，并含有脂肪族多元羧酸类和表面活性剂，其中当该组合物滴下在前述半导体基板上时的接触角变成50度以下。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 洗净 组合 | ||
【主权项】：
1、一种洗净液组合物，其用于滴下水时的表面接触角是70度以上的半导体基板上，并含有脂肪族多元羧酸类和表面活性剂，其中当该组合物滴下在前述半导体基板上时的接触角变成50度以下。
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