[发明专利]扫描光学装置及应用该装置的图像形成装置有效

专利信息
申请号: 03103884.0 申请日: 2003-02-14
公开(公告)号: CN1438511A 公开(公告)日: 2003-08-27
发明(设计)人: 加藤学 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;G03G15/01
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 付建军
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种扫描光学装置及应用该装置的图像形成装置,可以以容易且简单的方法在满足副扫描剖面内的像面弯曲的同时,提高表面偏斜校正功能,由偏转元件的偏转面的表面偏斜产生的照射位置偏离小的高品质的图像记录中适用。其中包括:将从光源装置(1)出射的光束的状态变换为另一状态的第一光学元件(2);将来自该第一光学元件(2)的光束变换为在主扫描方向上的纵向线性像的第二光学元件(4);使来自该第二光学元件(4)的光束偏转扫描的偏转元件(5);以及使来自该偏转元件(5)的偏转光束在被扫描面上成像为光点形状的扫描光学元件(6);且在副扫描剖面内该偏转元件的偏转面和该被扫描面大致共轭,在该偏转光束中,光轴上的光束的副扫描剖面内的波面像差变为最小的位置位于比该被扫描面更靠近该偏转元件侧。
搜索关键词: 扫描 光学 装置 应用 图像 形成
【主权项】:
1.一种扫描光学装置,包括:将从光源装置出射的光束的状态变换为另一状态的第一光学元件;将来自该第一光学元件的光束变换为在主扫描方向上的纵向线性像的第二光学元件;使来自该第二光学元件的光束偏转扫描的偏转元件;以及使来自该偏转元件的偏转光束在被扫描面上成像为光点形状的扫描光学元件;且在副扫描剖面内该偏转元件的偏转面和该被扫描面大致共轭;其特征在于:在该偏转光束中,光轴上的光束的副扫描剖面内的波面像差变为最小的位置位于比该被扫描面更靠近该偏转元件侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03103884.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top