[发明专利]扫描光学装置及应用该装置的图像形成装置有效
申请号: | 03103884.0 | 申请日: | 2003-02-14 |
公开(公告)号: | CN1438511A | 公开(公告)日: | 2003-08-27 |
发明(设计)人: | 加藤学 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10;G03G15/01 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 付建军 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种扫描光学装置及应用该装置的图像形成装置,可以以容易且简单的方法在满足副扫描剖面内的像面弯曲的同时,提高表面偏斜校正功能,由偏转元件的偏转面的表面偏斜产生的照射位置偏离小的高品质的图像记录中适用。其中包括:将从光源装置(1)出射的光束的状态变换为另一状态的第一光学元件(2);将来自该第一光学元件(2)的光束变换为在主扫描方向上的纵向线性像的第二光学元件(4);使来自该第二光学元件(4)的光束偏转扫描的偏转元件(5);以及使来自该偏转元件(5)的偏转光束在被扫描面上成像为光点形状的扫描光学元件(6);且在副扫描剖面内该偏转元件的偏转面和该被扫描面大致共轭,在该偏转光束中,光轴上的光束的副扫描剖面内的波面像差变为最小的位置位于比该被扫描面更靠近该偏转元件侧。 | ||
搜索关键词: | 扫描 光学 装置 应用 图像 形成 | ||
【主权项】:
1.一种扫描光学装置,包括:将从光源装置出射的光束的状态变换为另一状态的第一光学元件;将来自该第一光学元件的光束变换为在主扫描方向上的纵向线性像的第二光学元件;使来自该第二光学元件的光束偏转扫描的偏转元件;以及使来自该偏转元件的偏转光束在被扫描面上成像为光点形状的扫描光学元件;且在副扫描剖面内该偏转元件的偏转面和该被扫描面大致共轭;其特征在于:在该偏转光束中,光轴上的光束的副扫描剖面内的波面像差变为最小的位置位于比该被扫描面更靠近该偏转元件侧。
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