[发明专利]曝光装置、曝光方法，以及使用该曝光装置和方法的器件制造方法无效
| 申请号： | 03104107.8 | 申请日： | 2003-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN1438546A | 公开（公告）日： | 2003-08-27 |
| 发明（设计）人： | 篠田健一郎 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B3/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种曝光装置，其特征在于具有：在被曝光体上曝光转印掩模上的图案的投影光学系统；在和上述投影光学系统的孔共轭的位置附近形成2次光源面、并照射上述掩模的照射光学系统；把从上述2次光源面至上述被曝光体的透过率分布以及上述2次光源面的光强度分布中的至少一方设置为不均匀的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 使用 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征在于包含：在被曝光体上曝光转印掩模上的图案的投影光学系统；在和上述投影光学系统的孔共轭的位置附近形成2次光源面、并照射上述掩模的照射光学系统；以及使从上述2次光源至上述被曝光体的透过率分布以及上述2次光源面的光强度分布中至少一方不均匀的装置。
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