[发明专利]表面处理装置有效
申请号: | 03105242.8 | 申请日: | 2003-02-25 |
公开(公告)号: | CN1441083A | 公开(公告)日: | 2003-09-10 |
发明(设计)人: | 佐护康实;池田真义;金子一秋;冈田拓士 | 申请(专利权)人: | 安内华株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23F4/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 戈泊,程伟 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种表面处理装置,实现可有效地对需要温度控制的部分进行冷却或加热、并在所需的温度下均匀地进行控制的热交换器,由此可连续地进行稳定的处理。在具有排气机构和气体导入机构的处理室的内部,具备放置基板的基板放置台和气体排放机构,通过上述气体排放机构,朝向基板排放的气体或其反应生成物,对基板进行处理,其特征在于:基板放置台、气体排放机构或处理室具备热交换器,该热交换器是,在二个板状体之间设置有分隔壁,形成流路,使流体流过该流路,将上述板状体或与上述板状体接触的部件冷却或加热至规定的温度,即,分别在上述流路的内部的二个板状体上,与流路平行或具有规定的角度地设置翼片。 | ||
搜索关键词: | 表面 处理 装置 | ||
【主权项】:
1.一种表面处理装置,在具有排气机构和气体导入机构的处理室的内部,具备放置基板的基板放置台和与该基板放置台对向设置且与所述气体导入机构连接的气体排放机构,该表面处理装置通过所述气体排放机构,朝向所述基板排放的气体或其反应生成物,对基板进行处理,其特征在于:所述基板放置台、所述气体排放机构或所述处理室具备热交换器,该热交换器是,在二个板状体之间设置有分隔壁,形成流路,使流体流过该流路,将所述板状体或与所述板状体接触的部件冷却或加热至规定的温度,即,分别在所述流路的内部的二个板状体上,与流路平行或具有规定的角度地设置翼片。
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