[发明专利]光致抗蚀共聚物有效
| 申请号： | 03106352.7 | 申请日： | 1997-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN1478800A | 公开（公告）日： | 2004-03-03 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;卜喆圭;白基镐 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | C08F232/08 | 分类号： | C08F232/08;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 丁业平;王维玉 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种光致抗蚀剂，包括从双环烯衍生物、马来酸酐和/或碳酸亚乙烯酯制备的共聚物，其中共聚物分子量范围是3000－100000。该光致抗蚀剂可用于使用远紫外光作光源的亚微级平版印刷。除耐刻蚀性和耐热性高以外，该光致抗蚀剂具有良好粘附性并可在TMAH溶液中显影。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀 共聚物 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀共聚物，包含下式VIII所示的5-降冰片烯-2-羧酸2-羟乙酯的单体：(式VIII)![]()
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