[发明专利]电子发射元件、电子源和图像形成装置的制造方法无效
申请号: | 03106480.9 | 申请日: | 2003-02-27 |
公开(公告)号: | CN1441451A | 公开(公告)日: | 2003-09-10 |
发明(设计)人: | 荒井由高;水野祐信;岩城孝志;糠信恒树;竹上毅 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01J9/02 | 分类号: | H01J9/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 其特征在于:具有:在基体上配置一对电极的步骤;配置包含吸光材料的高分子膜,使其连接所述电极之间的步骤;通过向所述包含吸光材料的高分子膜照射光,使该高分子膜低电阻化的步骤;通过使电流流过通过使所述高分子膜低电阻化而得到的膜,在该膜上形成间隙的步骤。提供能简单步骤,并且能进行电子发射特性的改善的电子发射元件的制造方法。 | ||
搜索关键词: | 电子 发射 元件 图像 形成 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.电子发射元件的制造方法,具有以下步骤:(A)提供在其上配置了一对电极和连接所述一对电极的高分子膜的基体,其中,所述高分子膜包含高分子和具有吸光特性的物质;(B)对所述高分子膜照射光,使该高分子膜低电阻化;(C)在使所述高分子膜低电阻化而得到的膜上形成间隙。
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