[发明专利]照相处理组合物以及使用其的图像形成方法

摘要

一种照相处理组合物，含有至少一种选自下述通式(I)表示的化合物和下述通式(II)表示的化合物。(I)式中，A1及A2各自独立表示芳基或芳香族杂环基，L表示亚芳基或芳香族杂环的二价基，但A1及A2不包括三嗪基，L不包括亚三嗪基。X及Y各自独立表示二价连结基。其中，用通式(I)表示的化合物至少含有两个由－SO3M或－CO2M表示的基团。这里M表示氢原子、碱金属、碱土金属、铵或吡啶鎓。进一步，上述式的分子内不含有用－N＝N－或－SH表示的基团。还有，L为芳香族杂环的二价基时，X及Y各自表示NR1、S或O以外的二价连结基，R1表示氢原子或碳原子数1～6的烷基。(II)式中，A11表示芳香族烃或芳香族杂环基的三～四价基，但排除A11为三嗪的三价基的情况。A12表示芳基或芳香族杂环基。X1表示二价连结基，M1表示氢原子、碱金属、碱土金属、铵或吡啶鎓。进一步，上述式的分子内不含有用－N＝N－或－SH表示的基团。n表示3～4的整数，r及s各自表示0～10的整数，r+s为2以上。

主权项

1.一种照相处理组合物，其特征在于：含有至少一种选自由下述通式(I)表示的化合物和下述通式(II)表示的化合物。A1-X-L-Y-A2(I)(式中，A1及A2各自独立表示芳基或芳香族杂环基，L表示亚芳基或芳香族杂环的二价基，但A1及A2不包括三嗪基，L不包括亚三嗪基。X及Y各自独立表示二价连结基。其中，用通式(I)表示的化合物至少含有两个由-SO3M或-CO2M表示的基团。这里M表示氢原子、碱金属、碱土金属、铵或吡啶鎓。进一步，上述式的分子内不含有用-N＝N-或-SH表示的基团。还有，L为芳香族杂环的二价基时，X及Y各自表示N(R1)、S或O以外的二价连结基，R1表示氢原子或碳原子数1～6的烷基。)(式中，A11表示芳香族烃的三～四价基或芳香族杂环基的三～四价基，但排除A11为三嗪的三价基的情况。A12表示芳基或芳香族杂环基。X1表示二价连结基，M1表示氢原子、碱金属、碱土金属、铵或吡啶鎓。进一步，上述式的分子内不含有用-N＝N-或-SH表示的基团。n表示3～4的整数，r及s各自表示0～10的整数，r+s为2以上。)