[发明专利]一种应变计基材及其制造方法无效
| 申请号： | 03106907.X | 申请日： | 2003-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN1434271A | 公开（公告）日： | 2003-08-06 |
| 发明（设计）人： | 黄堂杰;庄朝钦 | 申请（专利权）人： | 黄堂杰 |
| 主分类号： | G01D5/16 | 分类号： | G01D5/16 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 台湾省台南县*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 涉及一种应变计基材及其制造方法，特别是指一种使用在传感器上的应变计基材及其制造方法。为两层结构，一层为高分子薄膜层，及接合在高分子薄膜层一侧表面的康铜附着层，所说的康铜附着层为表面溅镀康铜附着层。充分发挥其薄化效果，在用于制成应变计的后续蚀刻工艺中，提高其电路的高密度化特性及测量的精密度，明显优于已有的采用压延方式所制成的应变计基材。另外，不会存在已有的采用涂布工艺所造成的折损，也不会发生在辊轮压延过程中沾附灰尘所导致的破损与形成凹洞等情形，可明显降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应变 基材 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种应变计基材，为两层结构，其特征在于一层为高分子薄膜层，及接合在高分子薄膜层一侧表面的康铜附着层，所说的康铜附着层为表面溅镀康铜附着层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于黄堂杰，未经黄堂杰许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03106907.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：盐碱地小麦高产栽培技术
- 下一篇：盐酸恩丹西酮缓释组合物
