[发明专利]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 03107991.1 申请日: 2003-03-28
公开(公告)号: CN1448994A 公开(公告)日: 2003-10-15
发明(设计)人: 芳谷光明;柳泽畅生;丰田浩司 申请(专利权)人: 大日本屏影象制造株式会社
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;H01L21/306;H01L21/027;G02F1/13;B08B3/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 温大鹏,郑建晖
地址: 日本京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供这样一种装置,即,在处理槽内边传送基板边向基板供给处理液而对基板进行处理的场合,能够防止含有固化成分的处理液对传送辊和处理槽的内壁面等造成污染。在与基板(1)的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊(10)的正下方,配置有储液桶(12),向储液桶内供给显影液使得储液桶内始终充满显影液(14),传送辊的部分外周面浸在充满储液桶的显影液中。
搜索关键词: 处理 装置
【主权项】:
1.一种基板处理装置,在处理槽内边传送基板边以处理液对基板进行处理,其特征是,在与基板的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊的正下方配置有储液容器,具有向该储液容器内供给湿润用液使储液容器内始终充满湿润用液的供液机构,所说传送辊的部分外周面浸在充满所说储液容器的湿润用液中。
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