[发明专利]光致抗蚀剂残渣除去液组合物有效
| 申请号： | 03108247.5 | 申请日： | 2003-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN1447193A | 公开（公告）日： | 2003-10-08 |
| 发明（设计）人： | 大和田拓央;石川典夫;青木秀充;中别府健一;笠间佳子 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社;恩益禧电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/027;H05K3/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光致抗蚀剂残渣除去液组合物，其在半导体电路元件的制造过程中，对干蚀刻后残留的光致抗蚀剂残渣的除去性优良，且可以不腐蚀配线材料和不对阻挡层金属、层间绝缘膜材料产生损伤地进行光致抗蚀剂残渣的除去。该光致抗蚀剂残渣除去液组合物含有：一种或两种以上氟化合物、和从乙醛酸、抗坏血酸、葡萄糖、果糖、乳糖和甘露糖组成的组中选择的一种或两种以上，但是该组合物不包括氟化铵、极性有机溶剂、水和抗坏血酸所组成的组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 残渣 除去 组合 | ||
【主权项】：
1、一种光致抗蚀剂残渣除去液组合物，其含有：一种或两种以上氟化合物、和从乙醛酸、抗坏血酸、葡萄糖、果糖、乳糖和甘露糖组成的组中选择的一种或两种以上，但是该组合物不包括氟化铵、极性有机溶剂、水和抗坏血酸所组成的组合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于关东化学株式会社;恩益禧电子股份有限公司，未经关东化学株式会社;恩益禧电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03108247.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：驱动电致发光显示设备的方法和装置
- 下一篇：皮带扣、带皮带扣的皮带和防护帽
