[发明专利]一种具有电子俘获擦除状态的非易失半导体存储单元及其操作方法有效

专利信息
申请号: 03108816.3 申请日: 2003-03-28
公开(公告)号: CN1449049A 公开(公告)日: 2003-10-15
发明(设计)人: 叶致锴;蔡文哲;卢道政 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L27/112;H01L21/8246
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 韩宏
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的一较佳实施例提供了一种俘获式非易失存储单元,其包括有一个其上被形成有一N+源极与一N+漏极的P型半导体基底、一个被形成在该源极与该漏极之间的沟道。一个第一绝缘层、一个非传导式电荷陷获层、一个第二绝缘层、以及一个栅极被依序形成在该沟道之上。当非易失存储单元被擦除之时,陷获层会储存一定量的电子。
搜索关键词: 一种 具有 电子 俘获 擦除 状态 非易失 半导体 存储 单元 及其 操作方法
【主权项】:
1、一种俘获式非易失存储单元,其包括有:一个P型半导体基底,该P型半导体基底包括有一个源极、一个与该源极分隔的漏极、以及一个被形成在该源极与该漏极之间的沟道区;一个第一绝缘层,其覆盖住该沟道区;一个非传导式电荷陷获层,其覆盖住该第一绝缘层;一个第二绝缘层,其覆盖住该非传导式电荷陷获层;一个栅极,其覆盖住该第二绝缘层;一个邻近于该漏极的第一电荷储存区;以及一个邻近于该源极的第二电荷储存区;该非传导式电荷陷获层在该存储单元的一擦除状态中接收并保持电子;以及其中该非传导式电荷陷获层的第一及第二电荷储存区的净电荷在该存储单元的一编程状态中被减少。
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