[发明专利]快闪存储胞及其制造方法无效
申请号: | 03109219.5 | 申请日: | 2003-04-03 |
公开(公告)号: | CN1536672A | 公开(公告)日: | 2004-10-13 |
发明(设计)人: | 王进忠;杜建忠;宋达;洪至伟 | 申请(专利权)人: | 力晶半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105;H01L27/115;H01L21/8247;H01L21/8239 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 陈桢 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种快闪存储胞,此存储胞是由p型基底、设置于p型基底中的深n型井区、设置于p型基底上的堆叠闸极结构,此堆叠闸极结构由p型基底起依序为穿隧氧化层、浮置闸极、闸间介电层、控制闸极与顶盖层、分别设置于堆叠闸极结构两侧的p型基底中的源极区与汲极区、设置于深n型井区中,且从汲极区延伸至堆叠闸极结构下方并与源极区相邻的p型口袋掺杂区、贯穿汲极区与p型口袋掺杂区的接面的接触窗与设置于接触窗与汲极区、p型口袋掺杂区之间的金属硅化物层所构成。 | ||
搜索关键词: | 闪存 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种快闪存储体胞,其特征在于,包括:一第一导电型基底;一第二导电型第一井区,设置于该第一导电型基底中;一堆叠闸极结构,设置于该第一导电型基底上,该堆叠闸极结构由该第一导电型基底起依序为一穿隧氧化层、一浮置闸极、一闸间介电层、一控制闸极与一顶盖层;一源极区与一汲极区,分别设置于该堆叠闸极结构两侧的该第一导电型基底中;一第一导电型口袋掺杂区,设置于该第二导电型第一井区中,从该汲极区延伸至该堆叠闸极结构下方并与该源极区相邻;一接触窗,贯穿该汲极区与该第一导电型口袋掺杂区的接面;一金属硅化物层,设置于该接触窗与该汲极区、该第一导电型口袋掺杂区之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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