[发明专利]快闪存储胞及其制造方法无效

专利信息
申请号: 03109219.5 申请日: 2003-04-03
公开(公告)号: CN1536672A 公开(公告)日: 2004-10-13
发明(设计)人: 王进忠;杜建忠;宋达;洪至伟 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L27/115;H01L21/8247;H01L21/8239
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈桢
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种快闪存储胞,此存储胞是由p型基底、设置于p型基底中的深n型井区、设置于p型基底上的堆叠闸极结构,此堆叠闸极结构由p型基底起依序为穿隧氧化层、浮置闸极、闸间介电层、控制闸极与顶盖层、分别设置于堆叠闸极结构两侧的p型基底中的源极区与汲极区、设置于深n型井区中,且从汲极区延伸至堆叠闸极结构下方并与源极区相邻的p型口袋掺杂区、贯穿汲极区与p型口袋掺杂区的接面的接触窗与设置于接触窗与汲极区、p型口袋掺杂区之间的金属硅化物层所构成。
搜索关键词: 闪存 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种快闪存储体胞,其特征在于,包括:一第一导电型基底;一第二导电型第一井区,设置于该第一导电型基底中;一堆叠闸极结构,设置于该第一导电型基底上,该堆叠闸极结构由该第一导电型基底起依序为一穿隧氧化层、一浮置闸极、一闸间介电层、一控制闸极与一顶盖层;一源极区与一汲极区,分别设置于该堆叠闸极结构两侧的该第一导电型基底中;一第一导电型口袋掺杂区,设置于该第二导电型第一井区中,从该汲极区延伸至该堆叠闸极结构下方并与该源极区相邻;一接触窗,贯穿该汲极区与该第一导电型口袋掺杂区的接面;一金属硅化物层,设置于该接触窗与该汲极区、该第一导电型口袋掺杂区之间。
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