[发明专利]化学增幅型光阻剂组成物的高分子聚合物无效
| 申请号： | 03109355.8 | 申请日： | 2003-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN1462757A | 公开（公告）日： | 2003-12-24 |
| 发明（设计）人： | 陈启盛;李晏成;郑孟勋 | 申请（专利权）人： | 美国永光公司 |
| 主分类号： | C08F220/26 | 分类号： | C08F220/26;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈桢 |
| 地址： | 美国北卡*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种化学增幅型光阻剂组成物的高分子聚合物，其是含有如下式(II)的结构单元其中R1为H或C1－C4的烷基；R2为羟基、C1－C8烷氧基或C1－C8烷硫基；G为(CH2)n、氧或硫，其中n为0～4的整数；Rc为一内酯基；m为1～3的整数。本发明的高分子聚合物具良好亲水性、附着性及抗干性蚀刻的特性，可用于制备化学增幅光阻剂组成物，此化学可以应用在一般的微影成像制作过程，尤其是波长193nm光源的微影成像制作过程，并具有极佳的解析度、轮廓及感光度。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 型光阻剂 组成 高分子 聚合物 | ||
【主权项】：
1、一种化学增幅型光阻剂组成物的高分子聚合物，其特征在于，其是含有如下式(II)的结构单元其中R1为H或C1-C4的烷基；R2为羟基、C1-C8烷氧基或C1-C8烷硫基；G为(CH2)n、氧或硫，其中n为0～4的整数；Rc为一内酯基；m为1～3的整数。
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