[发明专利]液晶显示装置阵列基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 03109827.4 申请日: 2003-04-11
公开(公告)号: CN1452002A 公开(公告)日: 2003-10-29
发明(设计)人: 林柄昊 申请(专利权)人: LG.菲利浦LCD株式会社
主分类号: G02F1/136 分类号: G02F1/136;G02F1/1343;G03F7/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国,梁挥
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摘要: 一种液晶显示装置阵列基板的制造方法包括以下步骤:在一基板上形成一选通线、一选通垫和一栅极;在该选通线、栅极和选通垫上形成一栅极绝缘层;在该栅极绝缘层上形成一有源层;在该有源层上形成一欧姆接触层;在该欧姆接触层上形成一数据线、一数据垫以及源极和漏极;在源极和漏极上形成一象素电极,该象素电极接触漏极;在包括该象素电极的基板上形成第一钝化层;在第一钝化层上形成第二钝化层,第二钝化层暴露选通垫和数据垫之上的第一钝化层;以及对第二钝化层所暴露的第一钝化层制作图案,以暴露选通垫和数据垫。
搜索关键词: 液晶 显示装置 阵列 制造 方法
【主权项】:
1.一种液晶显示装置阵列基板的制造方法,包括:在一基板上形成一选通线、一选通垫和一栅极;在该选通线、栅极和选通垫上形成一选通绝缘层;在该选通绝缘层上形成一有源层;在该有源层上形成一欧姆接触层;在该欧姆接触层上形成一数据线、一数据垫以及源极和漏极;在源极和漏极上形成一象素电极,该象素电极接触漏极;在包括该象素电极的基板上形成第一钝化层;在该第一钝化层上形成第二钝化层,该第二钝化层暴露选通垫和数据垫之上的第一钝化层;以及对第二钝化层所暴露的第一钝化层制作图案,以暴露该选通垫和数据垫。
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