[发明专利]化学增幅光阻剂组成物无效

专利信息
申请号: 03110144.5 申请日: 2003-04-14
公开(公告)号: CN1538241A 公开(公告)日: 2004-10-20
发明(设计)人: 陈启盛;蔡茜茜;简镔;廖信明 申请(专利权)人: 台湾永光化学工业股份有限公司
主分类号: G03F7/038 分类号: G03F7/038
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是有关于一种化学增幅光阻剂组成物,是含有如下式(I)结构单元的高分子聚合物其中R1为氢、C1-C4的烷基、三氟甲基(CF3);Q为C4-C12的环状烷基;R2为:H、C1-C4的烷基、三氟甲基(CF3);R3为C4-C12的分枝状或环状烷类的酸敏感基;且x+y+z=1。本发明中的化学增幅光阻剂组成物,可以应用于目前一般的微影制程法,尤其针对于波长193nm光源的微影制程法,能得到优良的微影图形、解析度、轮廓与感光度。
搜索关键词: 化学 增幅 光阻剂 组成
【主权项】:
1.一种化学增幅光阻剂组成物,其特征在于,其是含有如下式(I)结构单元的高分子聚合物其中R1为氢、C1-C4的烷基、三氟甲基;Q为C4-C12的环状烷基;R2为:氢、C1-C4的烷基、三氟甲基;R3为C4-C12的分枝状或环状烷类的酸敏感基;且x+y+z=1。
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