[发明专利]化学增幅光阻剂组成物无效
申请号: | 03110144.5 | 申请日: | 2003-04-14 |
公开(公告)号: | CN1538241A | 公开(公告)日: | 2004-10-20 |
发明(设计)人: | 陈启盛;蔡茜茜;简镔;廖信明 | 申请(专利权)人: | 台湾永光化学工业股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/038 | 分类号: | G03F7/038 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是有关于一种化学增幅光阻剂组成物,是含有如下式(I)结构单元的高分子聚合物其中R1为氢、C1-C4的烷基、三氟甲基(CF3);Q为C4-C12的环状烷基;R2为:H、C1-C4的烷基、三氟甲基(CF3);R3为C4-C12的分枝状或环状烷类的酸敏感基;且x+y+z=1。本发明中的化学增幅光阻剂组成物,可以应用于目前一般的微影制程法,尤其针对于波长193nm光源的微影制程法,能得到优良的微影图形、解析度、轮廓与感光度。 | ||
搜索关键词: | 化学 增幅 光阻剂 组成 | ||
【主权项】:
1.一种化学增幅光阻剂组成物,其特征在于,其是含有如下式(I)结构单元的高分子聚合物其中R1为氢、C1-C4的烷基、三氟甲基;Q为C4-C12的环状烷基;R2为:氢、C1-C4的烷基、三氟甲基;R3为C4-C12的分枝状或环状烷类的酸敏感基;且x+y+z=1。
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