[发明专利]光掩模传送支撑座及光掩模传送方法无效
申请号: | 03110166.6 | 申请日: | 2003-04-15 |
公开(公告)号: | CN1538239A | 公开(公告)日: | 2004-10-20 |
发明(设计)人: | 林柏青 | 申请(专利权)人: | 力晶半导体股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/08 | 分类号: | G03F1/08;G03F7/00;H01L21/027 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陈小雯;李晓舒 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种光掩模传送支撑座(reticletransferring support)。该光掩模传送支撑座包括有一支撑基座用来容纳一光掩模,多个支撑点用来支撑该光掩模,以及多个固定架用来固定该光掩模。该各支撑点是由软性塑胶材质组成的椭圆形结构,并可调整位置避免在该光掩模背面造成刮痕。该各固定架内侧为一倾斜面,可在载入光掩模时自动固定该光掩模的位置。 | ||
搜索关键词: | 光掩模 传送 支撑 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光掩模传送支撑座(reticle transferring support),包括有:一支撑基座(supporting base),用来容纳一光掩模;多个支撑点(brace),设置于该支撑基座上用以支撑该光掩模;以及多个固定架(holder),设置于该支撑基座的边缘部分用以固定该光掩模的位置;其中该各固定架用来使得该光掩模被载入该支撑基座后可与该各固定架内侧的部分端点相接触,以避免该光掩模产生水平位移。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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