[发明专利]曝光方法及装置无效
| 申请号： | 03110416.9 | 申请日： | 2003-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN1467568A | 公开（公告）日： | 2004-01-14 |
| 发明（设计）人： | 辻川晋;谷口幸夫;山口弘高;松村正清 | 申请（专利权）人： | 株式会社液晶先端技术开发中心 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光方法及装置，其目的是降低支撑光罩及具有感光材的被曝光物的支撑机构移动的驱动机构所承受的物理性负荷，并将驱动机构制作成简单的结构。本发明的曝光方法，包含：使来自曝光用光源的至少部分光，入射到支撑在支撑机构的光罩的入射步骤；使来自光罩的透过光，从与入射到光罩的光入射方向不同的方向入射到支撑于支撑机构的感光材，并使前述透过光成像在感光材的成像步骤；旋转支撑机构，使来自光源的光得以沿着圆周方向变化其入射在光罩的照射位置的旋转步骤；在支撑机构的旋转中，使照射到光罩及感光材的光的照射位置在旋转面内，朝着与圆周方向不同的方向变化的照射位置变更步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，是将曝光用光罩的图案曝光在感光材的曝光方法，其特征在于，包含：使来自曝光用光源的至少部分光入射到支撑于支撑机构的所述光罩的入射步骤；使来自所述光罩的透过光，从与入射至所述光罩的光入射方向不同的方向入射至支撑于所述支撑机构的所述感光材，使所述透过光成像在所述感光材的成像步骤；旋转所述支撑机构，使来自所述光源的光沿着圆周方向变化其入射到所述光罩的照射位置的旋转步骤；在所述支撑机构的旋转中，使照射到所述光罩及所述感光材的光的照射位置得以在所述旋转面内，朝着与所述圆周方向不同的方向变化的照射位置变更步骤。
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